Estonian
English Chinese Simplified French German Portuguese Spanish Russian Japanese Korean Arabic Irish Greek Turkish Italian Danish Romanian Indonesian Czech Afrikaans Swedish Polish Basque Catalan Esperanto Hindi Lao Albanian Amharic Armenian Azerbaijani Belarusian Bengali Bosnian Bulgarian Cebuano Chichewa Corsican Croatian Dutch Estonian Filipino Finnish Frisian Galician Georgian Gujarati Haitian Hausa Hawaiian Hebrew Hmong Hungarian Icelandic Igbo Javanese Kannada Kazakh Khmer Kurdish Kyrgyz Latin Latvian Lithuanian Luxembou.. Macedonian Malagasy Malay Malayalam Maltese Maori Marathi Mongolian Burmese Nepali Norwegian Pashto Persian Punjabi Serbian Sesotho Sinhala Slovak Slovenian Somali Samoan Scots Gaelic Shona Sindhi Sundanese Swahili Tajik Tamil Telugu Thai Ukrainian Urdu Uzbek Vietnamese Welsh Xhosa Yiddish Yoruba Zulu Kinyarwanda Tatar Oriya Turkmen Uyghur
Leave Your Message
Veebipäring
6503fd048f54d46697
MCR membraanimooduli tugevdatud PVDF BM-SLMCR-30 asendusprojekt

MCR membraanimooduli tugevdatud PVDF BM-SLMCR-30 asendusprojekt

Toote ülevaade

Sukeldatud ultrafiltreerimise (MCR) tehnoloogia on veepuhastustehnoloogia, mis ühendab membraantehnoloogia ja füüsikalis-keemilise sadestamise protsessi. Sukeldatud ultrafiltreerimise (MCR) abil saab koagulatsioonisettepaagi väljalaskeveest suure täpsusega sette ja vee eraldada. Membraani kõrge filtreerimistäpsus tagab väljundvee kõrge kvaliteedi ja selguse.

See toode on valmistatud tugevdatud modifitseeritud PVDF-materjalist, mis tagasipesu ajal ei kooru ega purune, samal ajal on sellel hea läbilaskvus, mehaaniline jõudlus, keemiline vastupidavus ja saastumisvastane võime. Tugevdatud õõneskiudmembraani sise- ja välisdiameeter on vastavalt 1,0 mm ja 2,2 mm, filtreerimistäpsus on 0,03 mikronit. Filtreerimissuund on väljast sissepoole, st diferentsiaalrõhu mõjul imbub toorvesi õõneskiududesse, samal ajal kui bakterid, kolloidid, hõljuvained ja mikroorganismid jne membraanpaagis tagasi lükatakse.

    Võtke meiega ühendust
    toote üksikasjad
    Tootesildid

    Rakendused

    ● Pinnavee puhastamine.
    ● Raskmetallide reovee taaskasutamine.
    ● RO eeltöötlus.

    Filtreerimise jõudlus

    Allpool on näidatud filtreerimisefektiivsust modifitseeritud PVDF õõneskiust ultrafiltratsioonimembraani kasutamisel erinevat tüüpi vees:

    Ei. Ese väljalaskevee indeks
    1 TSS ≤1 mg/l
    2 Hägusus ≤ 1

    Spetsifikatsioonid

    Suurus

    1

    Joonis 1 MBR-i suurus

    Tehnilised parameetrid

    Filtreerimise suund Väljast sissepoole
    Membraanimaterjal Tugevdatud modifitseeritud PVDF
    Täpsus 0,03 mikronit
    Membraani pindala 30 meetrit2
    Membraanide ID/OD 1,0 mm / 2,2 mm
    Suurus 1250 mm × 2000 mm × 30 mm
    Vuugi suurus Φ24,5 mm

    Komponendi materjal

    Komponent Materjal
    Membraan Tugevdatud modifitseeritud PVDF
    Tihendus Epoksüvaigud + polüuretaan (PU)
    Eluase ABS-i

    Tingimuste kasutamine

    Kui toorvesi sisaldab palju lisandeid/jämedaid osakesi või suures koguses rasva, tuleb rakendada sobivaid eeltöötlusi. Vajadusel tuleb membraanpaagist vahu eemaldamiseks kasutada vahueemaldajat, palun kasutage alkoholipõhist vahueemaldajat, mida ei ole kerge katlakivi tekitada.

    Ese Limiit Märkus
    pH vahemik 5–9 (pesemisel 2–12) Neutraalne pH on bakterikultuuri jaoks parem
    Osakeste läbimõõt Vältige teravate osakeste membraani kriimustamist
    Õli ja määre ≤2mg/l Vältige membraani saastumist/voogude järsku vähenemist
    Kõvadus ≤150 mg/l Membraani ketenduse vältimine

    Rakenduse parameetrid

    Kujundatud voog 15–40 l/m²2.tund
    Tagasipesuvoog Kaks korda suurem kavandatud voog
    Töötemperatuur 5–45 ℃
    Maksimaalne töörõhk -50 kPa
    Soovituslik töörõhk ≤-35KPa
    Maksimaalne tagasipesu rõhk 100 kPa
    Töörežiim Pidev töö, vahelduv tagasipesu õhu loputus
    Puhumisrežiim Pidev õhustamine
    Õhustuskiirus 4 meetrit3/h.tükk
    Pesuperiood Puhasvee tagasipesu iga 1–2 tunni järel; CEB iga 1–2 päeva järel; võrguühenduseta pesu iga 6–12 kuu järel (ülaltoodud teave on ainult viitamiseks, palun kohandage vastavalt tegelikule rõhu diferentsiaalmuutuse reeglile)